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高精度专业级无掩膜直写光刻设备

此款设备为高精度专业级无掩膜直写光刻设备应用于大规模集成电路掩膜版制作、IC芯片、MEMS、LED、生物芯片、触摸屏等加工，有高精度工作平台，可实现8英寸的基底尺寸（可扩展）可实现0.5μm的亚微米线宽分辨率，配备高精度套刻和背面对准功能，高产能曝光，也可接受客制化订制。

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