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紧凑型无掩膜直写光刻设备

此款设备为紧凑型无掩膜直写光刻设备，广泛应用于IC芯片、MEMS、LED、生物芯片、触摸屏等加工高精密定位工作平台，可实现6英寸的基底尺寸（可扩展），可实现0.6μm的亚微米线宽分辨率，配备高精度套刻和背面对准功能（可选配），并可接受客制化订制。

MLL系列紧凑型无掩膜直写光刻设备

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