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离子辅助沉积工艺介绍
作者： 发布时间：2023-06-21 10:40:38点击：329
离子束辅助沉积(Ion Assisted Deposition，IAD)是在镀膜过程中将常规的电子束蒸发技术与离子体电弧技术相结合，它是目前镀制优质光学薄膜的主要方法之一。离子辅助镀膜技术是改善薄膜特性的重要手段，由源提供的高能离子与薄膜沉积分子碰撞后，将动能传递给薄膜分子，使得沉积分子具有很高的迁移率。从而改变薄膜的各种特性。如薄膜的致密度、附着力、应力、牢固度、折射率和吸收等。
离子源对薄膜特性的改变效果，不仅与基板种类、机器结构以及薄膜的制备工艺有关，而且与离子源的种类有关。
依据工作原理不同，当前常用离子源主要分为霍尔离子源、考夫曼离子源、射频离子源以及APS离子源。
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