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    无掩膜直写光刻是指利用光学复制的方法把图形印制在光敏记录材料上，然后通过刻蚀的方法将图形转移到晶圆片上来制作电子电路的技术。其中光刻系统被称为光刻机，带有图形的石英板称为掩膜，光敏记录材料被称为光刻胶或抗蚀剂。无掩膜直写光刻设备技术是从传统光学光刻技术衍生出的一种新技术，因为其曝光成像的方式与传统投影光刻基本相似，区别在于使用数字DMD代替传统的掩膜，其主要原理是通过计算机将所需的光刻图案通过软件输入到DMD芯片中，并根据图像中的黑白像素的分布来改变DMD芯片微镜的转角，并通过准直光源照射到DMD芯片上形成与所需图形一致的光图像投射到基片表面，并通过控制样品台的移动实现大面积的微结构制备。