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溅射镀膜工艺-热蒸发理论
作者： 发布时间：2023-09-06 10:48:53点击：278
热蒸发理论
热蒸发理论早期有人认为，溅射现象是被电离的气体的荷能正离子，在电场的加速下轰击靶表面，而将能量传递给碰撞处的原子，结果导致靶表面碰撞处很小区域内，发生瞬间强烈的局部高温，从而使这个区域的靶材料熔化，发生热蒸发。
热蒸发理论在一定程度上解决了溅射的某些规律和溅射现象，如溅射率与靶材料的蒸发热和轰击离子的能量关系、溅射原子的余弦分布规律等。但是，这一理论不能解释溅射率与离子入射角的关系; 单晶材料溅射时，溅射原子的角分布的非余弦分布规律; 以及溅射率与入射离子质量的关系等。
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