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行业知识

• 2023-09-05 10:01:33

  溅射镀膜工艺-溅射机理

  溅射现象很早就为人们所认识，通过大量实验研究，对这一重要物理现象得出以下几点结论:1) 溅射率随入射离子能量的增加而增大;而在离子能量增加到一定程度时,由于离子注入效应，溅射率将随之减小;2) 溅射率的大小与入射粒子的质量有关;3) 当入射离子的能量低于某一临界值 (闽值) 时，...

• 2023-09-06 10:48:53

  溅射镀膜工艺-热蒸发理论

  热蒸发理论 热蒸发理论早期有人认为，溅射现象是被电离的气体的荷能正离子，在电场的加速下轰击靶表面，而将能量传递给碰撞处的原子，结果导致靶表面碰撞处很小区域内，发生瞬间强烈的局部高温，从而使这个区域的靶材料熔化，发生热蒸发。 热蒸发理论在一定程度上解决了溅射的某些规律和溅射...

• 2023-09-07 10:52:37

  溅射镀膜工艺-动量转移理论

  动量转移理论 对于溅射特性的深入研究，各种实验结果都表明溅射完全是一个动量转移过程。现在，这一观点已成为定论，因而，溅射又称为物理溅射。 动量转移理论认为，低能离子碰撞靶时，不能从固体表面直接溅射出原子而是把动量转移给被碰撞的原子，引起晶格点阵上原子的链锁式碰撞。这种碰...

• 2023-09-12 10:54:45

  光学薄膜反射率和透过率测量-光谱分析测试系统原理

  透射率与反射率是光学薄膜器件最基本的光学特性，因此，薄膜器件透射率与反射率的测试是光学薄膜的基本测试技术。薄膜的透射率与反射率主要采用光谱测试分析仪进行测试。 作为光谱仪的一种，用于光学薄膜测试的光谱仪可以按照测试波段的不同分成紫外-可见分光光度计、红外分光光度计以及红...

• 2023-08-17 10:35:03

  溅射镀膜工艺-辉光放电阴极附近的分子状态

  辉光放电阴极附近的分子状态 如前所述，由于在冷阴极发射时，从阴极发射的电子的初始能量只有 1eV 左右，所以与气体分子不发生相互作用。故在非常靠近阴极的地方是黑暗的，这就是阿斯顿暗区。在使用氯、氛之类工作气体时，这个暗区很明显。可是对于其他气体，这个暗区就很窄，难以观察到。...

• 2023-08-22 10:01:33

  溅射镀膜工艺-低频交流辉光放电

  低频交流辉光放电 一般很少采用低频交流辉光放电进行溅射。在频率低于50kHz 的交流电压条件下，离子有足够的活动性，且有充分的时间在每个半周的时间内，在各个电极上建立直流辉光放电。这种放电称为低频交流辉光放电。这一放电基本上与直流辉光放电相同，只是两个电极交替地成为阴极和阳...

• 2023-08-23 10:01:38

  溅射镀膜工艺-射频辉光放电

  射频辉光放电 在一定气压下，当阴阳极间所加交流电压的频率增高到射频频率时，即可产生稳定的射频辉光放电。射频辉光放电有两个重要的特征:第一，在辉光放电空间产生的电子，获得了足够的能量，足以产生碰撞电离。因而，减少了放电对二次电子的依赖，并且降低了击穿电压。第二，射频电压能够...

• 2023-08-24 10:16:59

  溅射特性-溅射阈值

  溅射阙值 所谓溅射值是指使靶材原子发生溅射的人射离子所必须具有的最小能量。溅射闽值的测定十分困难，随着测量技术的进步，目前已能测出低于10-5原子/离子的溅射率。图 2-45是用不同能量的Ar+击各种金属元素靶材时得到的溅射率曲线。图 2-46 是不同种类的人射离子以不同能...